构 成
构成

Cleaner主要产品概要

2020年4月,日本化药集团将德国汉高(Henkel)的液晶和半导体清洁产品业务进行收购。在中国大陆地区的相应业务由化药化工(无锡)负责运营。

清洁产品面向高精细化和高功能化的显示屏、半导体及电子器件市场以日本化药独有的开发力为武器,目前已拥有优越性能的产品阵容,对电子工业产业整体的发展作出贡献。

当前,产品已被显示领域与半导体领域的厂商所广泛使用。

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液 晶

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以用于液晶显示屏中彩膜的显影液为主,还拥有基板玻璃玻璃基板清洗剂、应对各种金属配线的光刻胶剥离液等产品
 NK disperse系列显影液

适用于 LCD 彩色滤光片的显影液产品系列。 运用独特的浓缩技术与表面活性剂最优化配比技术,对于细微的 BM 显影,也可实现良好的显影性。

(1)HAC:混合了活性剂的负胶型显影液,用于LCD彩色滤光片RGB的光刻胶。通过表面活性剂的效果,可以实现细线宽的显影。可改善显影效果偏差。

(2)DX:混合了活性剂的负胶型显影液,用于RGB。拥有优异的显影性能,由于是高浓缩型,因此可减少药剂的使用量。产品属于有机碱类,因此对金属的腐蚀性弱,可对应COA(Color Filter On Array)型制程。


 NK poleve 系列返工剥离液

用于制程返工的剥离液。具有极低的对玻璃刻蚀速率,可对应RGB,BM,UV cure/Heat cure OC, PS等各种抗试剂,剥离性能强。

 NK E-Cleaner S系列清洗液

一种有机型清洗液,适合去除轻油及油脂、磨料、薄膜浮垢、废纸尘埃等各种污渍 。


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半 导 体
我们拥有应对于高精细光刻工艺的各种显影液、剥离液的产品。此外还包括在WLP工艺中使用的厚膜负性光刻胶以及干膜光刻胶用剥离液、干式蚀刻后残渣去除液等。还可以提供符合各种法律规定的产品以及不含NMP等环境友好型的药液

 NK disperse UT系列显影液

用于图像传感器的彩色滤光片、以及用于铝布线防腐蚀功能的TMAH型产品系列。

混合了有机碱和活性剂的负胶/正胶型显影液。用于半导体和分立器件的制造工艺。选用可以优化光刻胶分散性的活化剂,不会在图形上留下光刻胶残留物,并且可以去除因光刻胶引起的细小气泡,可直接进入下一道工序。

 NK poleve系列光刻胶剥离液

(1)常规级光刻胶用剥离液

         NK poleve 517

         NK poleve PRS100

用于去除常规的液态光刻胶。

(2)高性能光刻胶剥离液

         NK  poleve 496

         NK  poleve 480

可去除DRIE等工艺对应改性变质的光刻胶,厚膜型液态光刻胶也可对应。

(3)干膜用剥离液

         NK poleve 117

         NK poleve SH

专门用于去除干膜的剥离液产品系列。

半导体应用工艺事例
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在先进封装工艺当中,Micro Bump,Cu pillar, RDL以及TSV的生成,都是日本化药的剥离液发挥性其优异性能的领域。



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基 板 及 封 装
我们拥有用于清洗电子部件助焊剂等各种清洗剂的产品。不含氟、氯等任何卤素类溶剂,是环境友好型清洗剂。另外还可提供助焊剂清洗以及脱脂用清洗等适宜于各种用途的清洗剂。


基板及封装清洗液。


 NK E-cleaner A 系列清洗液

准水型清洗溶剂。通过使用原液,实现高去污力的准水型产品系列。 通过对水溶性溶剂和特殊表面活性剂的混合,去除细微部位里残留的助焊剂。

 NK E-cleaner SO 系列清洗液

一种混合多种溶剂的碳氢清洗液,对于通常的油份、助焊剂具有极强的去除性能。具有强大的渗透力和溶解力,可以去除附着在细微部位上的污垢(油份和助焊剂)。 








Tel:0510-83780879